真空蒸着材料・光学材料・成膜・加工なら晶立株式会社

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品名

分子式

用途

MgF2

反射防止膜、多層膜、ビームスプリッター

SiO2

多層膜、反射防止膜、ビームスプリッター、キャパシタ膜

SA

SiO2+Ai2O3

多層膜、反射防止膜、保護膜、プラスチック基板用

YF3

YF3

IR膜

Al2O3

反射防止膜、多層膜、干渉膜、保護膜

ZA

ZrO2+Al2O3

LaAlO3

SiO

SiO

反射防止膜、保護膜、干渉膜、装飾膜

ZrO2+Zr

IR膜

ZrO2

多層膜、ビームスプリッター、反射防止膜

ZrO2+Ta2O5

HfO2

紫外線用多層膜、高誘電率(High-k)膜

LaTiO3

Ta2O5

反射防止膜、干渉フィルター

Nb2O5

ZRT

ZrO2+TiO2

Ti3O5

高屈折層膜、レーザーミラーの多層膜、
ビームスプリッター

TiO2

In2O3+SnO2

IR膜

Cr

Cr

NDフィルター

Ge

Ge

CO2レーザ用レンズ、赤外線フィルター

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撥油膜、防汚膜

*ご要望により各種サイズ、各種混合比率で製造致します。

晶立について

近年、光学部品に用いられる薄膜は、光学特性を満たすことのみならず、機械的特性、長期安定性、各種機能性の向上が求められております。
SOLISではこのように多様化・高度化する光学部品の仕様に対応すべく日本のお客様と共に光学材料の開発を行って参りました。

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