低屈折率材料・SiO2 of 真空蒸着材料・光学材料・成膜・加工なら晶立株式会社

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Silicondioxide

分子式：SiO2
屈折率（at 550nm）：1.47
透過波長（nm）：200～10,000
融点(℃)：1710 (Softing)
沸点(℃)：2227
密度(g/cm3)：2.2
蒸着ソース： EB，Ta

外観・形状 : 透明〜白色・顆粒状・タブレット状・リング状
純度：99.9％以上
用途：多層膜、反射防止膜、ビームスプリッター、キャパシタ膜

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近年、光学部品に用いられる薄膜は、光学特性を満たすことのみならず、機械的特性、長期安定性、各種機能性の向上が求められております。
ＳＯＬＩＳではこのように多様化・高度化する光学部品の仕様に対応すべく日本のお客様と共に光学材料の開発を行って参りました。