低屈折率材料・SA of 真空蒸着材料・光学材料・成膜・加工なら晶立株式会社

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Silicon dioxide & Aluminium oxide

分子式：SiO2+Al2O3
屈折率（at 550nm）：1.48～1.5
透過波長（nm）：300～7,000
融点(℃)：2000
沸点(℃)：---
密度(g/cm3)：2.00
蒸着ソース： EB

外観・形状 : 白色・顆粒状・タブレット状
純度：99.9％以上
用途：

>> 低屈折率材料

> 中間屈折率材料

> 高屈折率材料

> その他機能性材料

近年、光学部品に用いられる薄膜は、光学特性を満たすことのみならず、機械的特性、長期安定性、各種機能性の向上が求められております。
ＳＯＬＩＳではこのように多様化・高度化する光学部品の仕様に対応すべく日本のお客様と共に光学材料の開発を行って参りました。